JB/T 8945—1999 真空濺射鍍膜設備

JB/T 8945—1999 真空濺射鍍膜設備

Vacuum sputtering coating plant

1、范圍

JB/T 8945—1999 真空濺射鍍膜設備標準規定了真空濺射鍍膜設備的型號和基本參數，技術要求，試驗方法，檢驗規則，標志、包裝、運輸和貯存等。

本標準適用于壓力在1×10-4~5×10-3 Pa 范圍的真空賤射鍍膜設備（以下簡稱設備）。

2、引用標準

下列標準所包含的條文，通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。本標準出版時，所示版本均為有效。所有標準都會被修訂，使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性。

GB 191—1990 包裝儲運圖示標志

GB/T 6070—1995 真空法蘭

GB/T 11164—1999 真空鍍膜設備 通用技術條件

GB/T 13306—1991 標牌

JB/T 1090—1991 J型真空用橡膠密封圈

JB/T 1091—1991 JO型和骨架型真空用橡膠密封圈 型式及尺寸

JB/T 1092—1991 O型真空用橡膠密封圈 型式及尺寸

JB/T 7673—1995 真空設備 型號編制方法

3、型號與基本參數

3.1、設備的型號應符合JB/T 7673的規定。

3.2、設備的基本參數應符合表1 的規定。

表 1 基本參數

4、技術要求

4.1、設備正常工作條件

4.1.1、溫度：10~30℃。

4.1.2、相對濕度：不大于75%。

4.1.3、冷卻水進水溫度：不高于25℃。

4.1.4、冷卻水質量：城市自來水或質量相當的水。

4.1.5、供電電源：380V、三相四線制、50 Hz，電壓波動范圍：361~399 V，頻率波動范圍：49~51 Hz。

4.1.6、環境：室內應整潔；地面、天花板及設備周圍墻壁應干凈；空氣應清潔，不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵埃或氣體存在。

4.2、結構要求

4.2.1、設備中靜、動密封圈的結構形式及尺寸應符合GB/T 6070和JB/T 1090~1092的規定。

4.2.2、真空管道上和鍍膜室靠近排氣口位置上應裝設真空測試規管，分別測量各部位的壓力。

4.2.3、如果設備以油擴散泵或油擴散噴射泵為主泵，應在其進氣口一側安裝油蒸氣捕集阱。

4.2.4、鍍膜室應設有觀察窗，對在鍍膜過程中發生射線的設備，觀察窗上應加裝防射線鏡片。

4.3、制造質量

設備的制造質量要求按GB/T 11164—1999 中4.4。

4.4、安全防護要求

設備的安全防護要求按GB/T 11164—1999 中4.5。

5、試驗方法

5.1、極限壓力

5.1.1、試驗條件

a）鍍膜室內為空載（即不放被鍍物品，也不進行濺射），不得拆去設備正常工作時應安裝的濺射源、工件支架等部件；

b）真空測量規管應裝于鍍膜室靠近排氣口位置上；

c）允許在抽氣過程中用設備本身配有的加熱或轟擊裝置對鍍膜室進行除氣。

5.1.2、測試方法

按GB/T 11164—1999 中的5.2.2。